Titaanialumiininen sputterointikohde

Titaanialumiinin sputterointikohteen kuvaus

Sputterointikohde viittaa sputterointipinnoitusprosessissa käytettävään raaka-aineeseen, jolla tarkoitetaan prosessia, jossa atomien irtoaminen kiinteästä kohteesta johtuen korkeaenergisten hiukkasten pommituksesta, ja sen päätehtävänä on kerrostaa ohut kalvo. esineen päällä. Titaanialumiinisputterointikohde on hyvin yleisesti käytetty kohde, joka voidaan valmistaa valumenetelmällä ja kuumaisostaattisella puristusmenetelmällä. Erityinen prosessi on: sulata ensin metallimateriaali, kaada se sitten muottiin valanteen muodostamiseksi ja sitten tako se, valssataan, sintrataan ja kiillotetaan. Titaanialumiiniruiskutuskohteita käytetään yleensä koristepinnoitteissa, jotka voivat kerrostaa kalvoja, joilla on hyvä kovuus, korkea kirkkaus, korroosionkestävyys, hapettumisenkestävyys ja hyvä haalistumiskestävyys. Jos tarvitset, voimme tarjota titaanialumiinisputterointikohteita yhdessä kuparialustalevyn kanssa, voit ottaa meihin yhteyttä sähköpostitse.

Titaanialumiininen sputterointikohdeTekniset tiedot:

Titaanialumiinin ruiskutuskuvat:

Suositut Tagit: titaanialumiinin ruiskutuskohde, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkumyynti, hinta, tarjous, myytävänä