Volframi Titaani sputtering kohde

Volframi Titaani sputtering kohde

FANMETAL toimittaa W-Ti-seos volframi alumiini sputtering kohde käytetään PVD-pinnoite järjestelmässä puolijohde . Ti-sisältö 10%~ 50% , normaalisti toimitamme WTi 90: 10 -koostumuksen . Tarjoamme myös muita metalleja kohde- ja haihdutusmateriaalia erittäin puhtaaksi 99.9999%, jalometallikohde (Au , Ag , Pt) , kohdesidospalvelu, upokas vuoraukset ( kupari , molybdeeni , volframi jne.)

Volframi titaani sputtering kohde prosessi:

HP: n kuumapuristimen sintraus, korkea paine ja korkean lämpötilan eristys tuottavat hyvän tiheyden volframi-titaaniseoksen. Tiheys on yli 99,5 %, tarkkuustyöstö, hyvä tiheys, hyvä puhtaus ja hyvä pintaviimeistely.

Tärkein syy siihen, miksi puolijohdesiru valitsee uuden kohde volframi-titaaniseoksen estekerroksen ja diffuusion sidoskerroksena, on seos, jolla on hyvä pinnan tarttuvuuskyky ja erinomaiset lämmönpoisto-ominaisuudet. Tällä tavoin valmistetulla tuotteella on korkeampi kattava suorituskyky.

Volframi titaani sputtering kohde kuva:

Volframi Titanium Sputtering Target on seos, jolla on siirtymämetallien volframin ja titaanin edut. Sillä on suurempi tiheys ja puhtaus, parempi korroosionkestävyys ja pienemmät tilavuuden laajennusvaikutukset, jotka voivat tehokkaasti vähentää valmistusprosessin muutosten määrää. Keskisuurten hiukkasten muodostuminen voi onnistuneesti valmistaa korkealaatuisia kalvoja

Suositut Tagit: Volframi Titanium Sputtering Target, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkukauppa, hinta, tarjous, myytävänä