Titaani sputterointi kohde

FANMETAL-syöttö Puhdas 99.999% Titaani sputterointi tavoite. Puhtaus 99,5%: sta 99.9999%: iin. Tällä hetkellä 4 megabitin VLSI: lle titaanin puhtauden on saavutettava 4N5 (99.995%) ~ 5N (99.999%), kun taas 16 megabitin kolmannen sukupolven VLSI vaatii titaanin puhtauden saavuttaakseen 6N ( 99.9999%) tason.

Tarjoamme myös metallin kohde- ja haihdutusmateriaalin korkeaan puhtauteen 99.9999%, jalometallikohde (Au , Ag , Pt) , kohdesidospalvelu, upokas vuoraukset ( kupari , molybdeeni , volframi jne.)

Titaani sputtering kohde kuva:

Titanium Sputtering Targetin tärkeimmät sovellukset ovat:

1. Biologiset materiaalit

Titaani on ei-magneettinen metalli, eikä sitä magnetoida voimakkaassa magneettikentässä. Sillä on hyvä yhteensopivuus ihmiskehon kanssa eikä sillä ole myrkyllisiä sivuvaikutuksia. Sitä voidaan käyttää ihmisen implanttilaitteiden valmistukseen. Yleensä lääketieteelliset titaanimateriaalit eivät saavuta erittäin puhtaan titaanin tasoa, mutta kun otetaan huomioon epäpuhtauksien liukeneminen titaaniin, titaanin puhtauden implanteille tulisi olla mahdollisimman korkea. Kirjallisuudessa mainitaan myös, että erittäin puhdasta titaanilankaa voidaan käyttää biologisena hihnamateriaalina. Lisäksi upotettu katetrilla varustettu titaani-injektioneula on myös saavuttanut erittäin puhtaan titaanitason.

2. Koristelumateriaalit

Erittäin puhtaalla titaanilla on erinomainen ilmakehän korroosionkestävyys, eikä se muuta väriä pitkäaikaisen käytön jälkeen ilmakehässä, mikä takaa titaanin alkuperäisen värin. Siksi erittäin puhdasta titaania voidaan käyttää myös rakennuskoristeiden materiaaleina. Lisäksi viime vuosina jotkut huippuluokan koristeet ja jotkut kulutustarvikkeet, kuten rannekorut, kellot ja spektaakkelikehykset, on valmistettu titaanista, joka hyödyntää korroosionkestävyyden, värimuutosten, hyvän kiillon pitkäaikaisen ylläpidon ja herkistymättömyyden ominaisuuksia kosketuksessa ihmisen ihon kanssa. Joissakin koristeissa käytetyn titaanin puhtaus on saavuttanut 5N-tason.

3. Hengittävä materiaali

Titaani, erittäin aktiivisena metallina, jolla on kemiallisia ominaisuuksia, voi reagoida monien elementtien ja yhdisteiden kanssa korkeissa lämpötiloissa. Erittäin puhtaalla titaanilla on voimakas aktiivisten kaasujen adsorptio (kuten O2, N2, CO, CO2 ja vesihöyry yli 650 ° C). Pumpun seinällä haihtunut Ti-kalvo voi muodostaa pinnan, jolla on suuri adsorptiokyky. Tämä ominaisuus tekee Ti on laajalti käytetty getteri erittäin korkea tyhjiö pumppaus järjestelmät. Jos sitä käytetään sublimaatiopumpuissa, sputterointi-ionipumpuissa jne., sputteroivan ionipumpun lopullinen käyttöpaine voi olla jopa 10-9Pa.

4. Sähköiset tietomateriaalit

Viime vuosina korkean teknologian alojen, kuten puolijohdeteknologian ja tietotekniikan, nopean kehityksen myötä sputterointikohteissa käytetyn erittäin puhtaan titaanin määrä (ks. kuva 1), integroidut piirit, DRAM-muistit ja litteät paneelinäytöt ovat lisääntyneet. Materiaalien puhtausvaatimukset kasvavat koko ajan. Puolijohde-VLSI-teollisuudessa käytetään titaani-piiyhdisteitä, titaanityppiyhdisteitä, volframi-titaaniyhdisteitä jne. Sputterointimenetelmää käytetään näiden materiaalien valmistukseen, ja sputterointimenetelmässä käytetty titaanikohde vaatii korkeaa puhtautta erityisesti alkalimetallielementtien ja radioaktiivisten elementtien osalta.

Viime vuosina sen vastaavat sputterointilaitteet ovat myös alkaneet käyttää erittäin puhdasta titaania, jolla on sama puhtaus kuin sputteroiva titaanikohde.

Suositut Tagit: Titanium Sputtering Target, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkukauppa, hinta, tarjous, myytävänä