Metallin ruiskutuskohde

Titaani pii sputterointi kohde

FANMETAL toimittaa Ti-Si-seos titaanipiin sputterointikohteen, jota käytetään PVD-pinnoitejärjestelmässä. TiSi-seoskompostointi: 85:15at% 80:20at% 75:25at% . Tarjoamme myös metallin kohde- ja...

Lisää kyselyyn
Titaani sputterointi kohde

FANMETAL-syöttö Puhdas 99.999% Titaani sputterointi tavoite. Puhtaus 99,5%: sta 99.9999%: iin. Tällä hetkellä 4 megabitin VLSI: lle titaanin puhtauden on saavutettava 4N5 (99.995%) ~ 5N (99.999%),...

Lisää kyselyyn
Zirkonium sputtering kohde

FANMETAL toimittaa PVD-pinnoitusjärjestelmässä käytettävän Zirconium Sputtering Targetin. Materiaali puhdas zirkonium Zr702. Tarjoamme myös muita metallin kohde- ja haihdutusmateriaaleja erittäin...

Lisää kyselyyn
Volframi Titaani sputtering kohde

FANMETAL toimittaa W-Ti-seos volframi alumiini sputtering kohde käytetään PVD-pinnoite järjestelmässä puolijohde . Ti-sisältö 10%~ 50% , normaalisti toimitamme WTi 90: 10 -koostumuksen . Tarjoamme...

Lisää kyselyyn

Etusivu 4 5 6 7 8 910 Viimeinen sivu 10/10

Meidät tunnetaan yhtenä johtavista metallisputterointikohteiden valmistajista ja toimittajista Kiinassa. Jos aiot ostaa korkealaatuisen metallisputterointikohteen kilpailukykyiseen hintaan, tervetuloa saamaan tarjous tehtaaltamme. Myös räätälöity palvelu on saatavilla.