Metallin ruiskutuskohde

Erittäin puhdas kromi sputterointikohde

Korkean puhtauden kromisputteroinnin tavoite Kuvaus Kromimetallia arvostetaan korkean korroosionkestävyyden ja kovuuden vuoksi, ja lisäämällä metallista kromia ruostumattomaan teräkseen on

Lisää kyselyyn
Nikkelikromi pyörivä sputterointikohde

Nikkelikromi pyörivä sputterointikohde Kuvaus Nikkelikromi pyörivä sputterointikohde valmistetaan yleensä sulattamalla ja valamalla, kolmikerroksisen elektrolyysiprosessin sekä sarjan mekaanisen

Lisää kyselyyn
AISi metalliseos sputtering Target

AISi Alloy Sputtering Target Kuvaus Sputterointikohde on päällystyskalvopinnoitustekniikan tärkein raaka-aine, jolla on korkeat vaatimukset koon, tasaisuuden, sileyden, tiheyden ja

Lisää kyselyyn
Alumiinipiilejeeringin sputterointikohde

Alumiinipiilejeeringin ruiskutuskohdeominaisuudet: Sputterointi on pinnoitusprosessi, joka suoritetaan tyhjiötilassa. Sputterointimateriaalin laatu määrää kerrostetun kalvon käyttöiän ja laadun.

Lisää kyselyyn
Titaani-alumiini (Ti-Al) -lejeeringin ruiskutuskohde

Titaanialumiinista (Ti-Al) valmistettu sputterointikohde Kuvaus Sputterointikohteen päätehtävä on kerrostaa tiheä kalvo työkappaleen päälle, mikä parantaa työkappaleen kulutuskestävyyttä ja

Lisää kyselyyn
Titaani-alumiinilejeeringin sputterointikohde

Titaanialumiinilejeeringin ruiskutuskohdekuvaus Tavalliseen sulatusprosessiin verrattuna titaanialumiiniseosruiskutuskohde valmistetaan yleensä kuumaisostaattisella puristusprosessilla, jolla on

Lisää kyselyyn
Titaani alumiini sputtering kohde

FANMETAL toimittaa Ti-Al-seos titaanialumiinin sputterointikohteen, jota käytetään PVD-pinnoitejärjestelmässä. Tarjoamme myös muita metalleja kohde- ja haihdutusmateriaalia erittäin puhtaaksi

Lisää kyselyyn
Erittäin puhdas kromi sputterointikohde

Korkean puhtauden kromi-sputterointikohde Kuvaus ja käyttökohde Korkeasta peilikiiltostaan ja korroosionkestävyydestään tunnettu kromimetalli on yksi maailman suosituimmista metalleista. Korkean

Lisää kyselyyn
Chromium Cr Sputter Target

Chromium Cr Sputter Target Kuvaus Kromi on kova ja hauras teräksenharmaa siirtymämetalli, jota arvostetaan korkeasti korroosionkestävyydestään ja kovuudestaan. Chromium Cr sputtering Targetit ovat

Lisää kyselyyn
Erittäin puhdasta molybdeenia sisältävä pyörivä kohde

High Purity Molybdeum Rotary Target Molybdeen Rotary Target on saatavana monessa muodossa, puhtaudessa, koossa ja hinnoissa. Pyörivä molybdeenikohde on sarja erittäin puhtaasta

Lisää kyselyyn
Erittäin puhdas Mo Sputter Target

High Purity Mo Sputter Target Yritys valmistaa erittäin puhdasta metallilaatikkoa High Purity Mo Sputter Target itsenäisillä immateriaalioikeuksilla, joita on käytetty

Lisää kyselyyn
Mo Sputtering Targets

Mo Sputtering Targets -malli ei. :Mo Sputtering Targets Standard: ASTM, GB Pinta: Kiillotettu, Cynomolgus Käyttökohde: Pintapinnoite Puhtaus: Vähintään 99,95 prosenttia Tiheys: 10,2 g/cm3

Lisää kyselyyn

Etusivu 4 5 6 789 10 Viimeinen sivu 8/10

Meidät tunnetaan yhtenä johtavista metallisputterointikohteiden valmistajista ja toimittajista Kiinassa. Jos aiot ostaa korkealaatuisen metallisputterointikohteen kilpailukykyiseen hintaan, tervetuloa saamaan tarjous tehtaaltamme. Myös räätälöity palvelu on saatavilla.

(0/10)