Mo Sputtering Targets

Mo Sputtering Targets -malli ei. :Mo Sputtering Targets Standard: ASTM, GB Pinta: Kiillotettu, Cynomolgus Käyttökohde: Pintapinnoite Puhtaus: Vähintään 99,95 prosenttia Tiheys: 10,2 g/cm3 Käyttökohteet: tyhjiöpinnoite, puolijohde Tekniset tiedot: ISO9001: 2015 Tavoitteenamme on soveltaa puolijohteisiin. .

Lähetä kysely

Mo Sputtering Targets

Malli ei. :Mo Sputtering Targets

Vakio: ASTM, GB

Pinta: Kiillotettu, Cynomolgus

Käyttö: Pintapinnoitus

Puhtaus: vähintään 99,95 prosenttia

Tiheys: 10,2 g/cm3

Käyttökohteet: tyhjiöpinnoite, puolijohde

Tekniset tiedot: ISO9001: 2015

Mo Sputtering Targets Specification

Tuotteen nimi	Mo1 Molybdeeni Molybdeenin tavoitehinnat
Materiaali	Molybdeeni raaka-aine
Väri	Alkuperäinen
Puhtaus	Mo>99,95 prosenttia
Tekniset tiedot	Halk.({{0}}mm) x paksuus(0.1-100)mm ;muokata asiakkaiden piirustuksen mukaan
Pintakäsittely	Kiillotus, valssaus
Sovellus	LCD:n, kosketusnäytön, aurinkokennon jne. valmistukseen

Mo Sputtering Targets -kuva:

PVD Sputtering Targets (3)

PVD Sputtering Targets (4)

Tavoitteemme on soveltaa puolijohteisiin, optiikkaan, nestekidenäyttöihin, integroituihin piireihin, huipputeollisuuteen, tyhjiöpinnoitukseen, aurinkoenergiaan, vihreään energiaan ja autojen lasikenttiin.

Suositut Tagit: mo sputtering targets, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkumyynti, hinta, tarjous, myytävänä