Sputtering Target

Erittäin puhdas kromi sputterointikohde

Korkean puhtauden kromi-sputterointikohde Kuvaus ja käyttökohde Korkeasta peilikiiltostaan ja korroosionkestävyydestään tunnettu kromimetalli on yksi maailman suosituimmista metalleista. Korkean

Lisää kyselyyn
Chromium Cr Sputter Target

Chromium Cr Sputter Target Kuvaus Kromi on kova ja hauras teräksenharmaa siirtymämetalli, jota arvostetaan korkeasti korroosionkestävyydestään ja kovuudestaan. Chromium Cr sputtering Targetit ovat

Lisää kyselyyn
Erittäin puhdasta molybdeenia sisältävä pyörivä kohde

High Purity Molybdeum Rotary Target Molybdeen Rotary Target on saatavana monessa muodossa, puhtaudessa, koossa ja hinnoissa. Pyörivä molybdeenikohde on sarja erittäin puhtaasta

Lisää kyselyyn
Erittäin puhdas Mo Sputter Target

High Purity Mo Sputter Target Yritys valmistaa erittäin puhdasta metallilaatikkoa High Purity Mo Sputter Target itsenäisillä immateriaalioikeuksilla, joita on käytetty

Lisää kyselyyn
Mo Sputtering Targets

Mo Sputtering Targets -malli ei. :Mo Sputtering Targets Standard: ASTM, GB Pinta: Kiillotettu, Cynomolgus Käyttökohde: Pintapinnoite Puhtaus: Vähintään 99,95 prosenttia Tiheys: 10,2 g/cm3

Lisää kyselyyn
Molybdeenin ruiskutuskohde

Molybdenum Sputtering Target Kuvaus Molybdenum Sputtering Target on erittäin ympäristöystävällinen sputterointimateriaali. Sen puhtaus on yleensä yli 99,95 prosenttia. Sillä on korkea lujuus, hyvä

Lisää kyselyyn
Molybdeeni pyöreä kohde

Molybdeenin pyöreä kohde Kuvaus ja käyttö Molybdeenipyöreä kohde koostuu pääasiassa kohdeaihiosta, takalevystä ja muista osista. Nämä kaksi vaativat erilaisia hitsausprosesseja liittämistä varten.

Lisää kyselyyn
Kupariruiskutuskohde

Kuparin ruiskutuskohde Kuvaus ja käyttö Sputterointikohteet ovat erityinen materiaaliluokka, jota käytetään pääasiassa ohutkalvopinnoitus- ja tyhjiöpinnoitusteollisuudessa. Copper Sputtering Target

Lisää kyselyyn
Volframi Pyöreä Target

Tungsten Round Target -ominaisuus ja sovellus Tungsten Round Target on tyypillinen volframituote elektroniikkateollisuudessa. Se on valmistettu pääasiassa erittäin puhtaasta volframimateriaalista

Lisää kyselyyn
Volframi Pyöreä Sputtering Target

Volframipyöreä sputterointikohde Kuvaus ja käyttö Kohde on yksi magnetronisputterointitekniikan välttämättömistä materiaaleista, ja kohteen suorituskyky määrää enemmän tai vähemmän kerrostetun kalvon

Lisää kyselyyn
Chromium Sputter Coater Target

Kromisputteripäällystyskohde Kuvaus Kromisputteripäällystimellä on samat ominaisuudet kuin metallikromilla, pääasiassa korkea lujuus, korkea kovuus, korkea hapettumisenkestävyys ja

Lisää kyselyyn
Chromium Cr sputtering kohteet

Kromi Cr-sputterointikohteet Kuvaus ja käyttö Kromimetalli on hopeaa, kiiltävää, erittäin peilikiillotettua ja erittäin kovaa, ja sitä käytetään pääasiassa metalliseosten valmistukseen. Kromi

Lisää kyselyyn

Etusivu 5 6 7 8910 11 Viimeinen sivu 9/11

Meidät tunnetaan yhtenä johtavista sputterointikohteiden valmistajista ja toimittajista Kiinassa. Jos aiot ostaa korkealaatuisen sputterointikohteen kilpailukykyiseen hintaan, tervetuloa saamaan tarjous tehtaaltamme. Myös räätälöity palvelu on saatavilla.

(0/10)