Sputtering Target

Zirkonium pyörivät ruiskutuskohteet

Zirkoniumin pyörivät sputterointikohteet Kuvaus Zirkoniumin pyörivät sputterointikohteet on valmistettu erittäin puhtaasta zirkoniummateriaalista sarjan käsittelyn jälkeen, ja niillä on erityinen

Lisää kyselyyn
Zirkonium 702 Planar Target

Zirkonium 702 Planar Target Kuvaus Zirkonium on metallielementti, jolla on erinomainen korroosionkestävyys, korkea sulamispiste ja hyvät mekaaniset ominaisuudet, mikä tekee siitä hyödyllisen useissa

Lisää kyselyyn
Zirkonium 702 Pyöreä Target

Zirkonium 702 Round Target Kuvaus Zirkonium on kiiltävä harmaa-valkoinen vahva siirtymämetalli, jota käytetään laajalti ydinteollisuudessa ja ilmailuteollisuudessa. Zirkonium 702 Round Target

Lisää kyselyyn
99,95 % zirkoniumin sputterointikohteet

99,95 % zirkoniumin sputterointikohteet Kuvaus Magnetronisputterointi on uusi fyysinen höyrypinnoitusmenetelmä, joka käyttää elektronitykkijärjestelmää emittoimaan elektroneja ja keskittymään

Lisää kyselyyn
Erittäin puhtaat titaanikohteet

Korkean puhtauden titaanikohteet Kuvaus Titaani on paramagneettinen tulenkestävä metalli, jolla on vahva sitkeys ja suuri lujuus, erityisesti hapettomassa ympäristössä. Kohteiden osalta mitä

Lisää kyselyyn
Erittäin puhdas kromisputterikohde

Erittäin puhdas kromisputterointikohde Kuvaus Kromi on teräksenharmaa, kiiltävä, kova ja hauras siirtymämetalli. Korkean puhtauden kromisputterointikohde valmistetaan yleensä tyhjiösulatus- tai

Lisää kyselyyn
99,5 % booriruiskutuskohteet

99,5 % boorisputterointikohteet Kuvaus Päällystyskohde on sputterointilähde, joka muodostaa erilaisia toiminnallisia kalvoja alustalle sputteroimalla sopivissa prosessiolosuhteissa

Lisää kyselyyn
Molybdeeni (Mo) sputterointikohteet

Molybdeeni (Mo) sputterointikohteet Kuvaus Huippuluokan ohutkalvomateriaalien valmistusteknologiana sputteroinnilla on kaksi ominaisuutta: suuri nopeus ja erittäin matala lämpötila. Molybdeeni (Mo)

Lisää kyselyyn
Titaani metalli kohde

Titanium Metal Target Kuvaus Titanium Metal Target valmistetaan pääasiassa elektronisuihkujäähdytyssulatusmenetelmällä. Sillä on korkea puhtaus, korkea ominaislujuus, hyvä sitkeys hapettomassa

Lisää kyselyyn
Nikkelimetallisputterointikohteet

Nikkelimetallin sputterointikohteet Kuvaus Teollisuudessa nikkeliä käytetään yleisesti seosten valmistuksessa, akkujen valmistuksessa ja katalysaattorina. Erityisesti kohdemateriaalien alalla

Lisää kyselyyn
Kromimetalliruiskutuskohteet

Kromimetalliruiskutuskohteet Kuvaus Kromilla on korkea sulamispiste ja hyvä hapettumisenkestävyys, minkä ansiosta kromikohde pysyy vakaana korkeissa lämpötiloissa. Lisäksi kromikohteiden

Lisää kyselyyn
TiAl-titaaniseoksesta sputteroiva kohde

TiAl-titaaniseoksen sputterointikohde Kuvaus Sputterointikohde viittaa sputterointiprosessissa käytettyyn raaka-aineeseen. Se viittaa prosessiin, jossa atomit irtoavat kiinteästä kohteesta johtuen

Lisää kyselyyn

Meidät tunnetaan yhtenä johtavista sputterointikohteiden valmistajista ja toimittajista Kiinassa. Jos aiot ostaa korkealaatuisen sputterointikohteen kilpailukykyiseen hintaan, tervetuloa saamaan tarjous tehtaaltamme. Myös räätälöity palvelu on saatavilla.

(0/10)