Kromimetalliruiskutuskohteet

Chromium Metal Sputter Targets Kuvaus

Kromilla on korkea sulamispiste ja hyvä hapettumisenkestävyys, minkä ansiosta kromikohde pysyy vakaana korkeissa lämpötiloissa. Lisäksi kromikohteiden elektronisuihkupinnoitus ja magnetronisputterointiominaisuudet antavat sille ainutlaatuisia etuja korkean teknologian aloilla, kuten mikroelektroniikan käsittelyssä ja optisissa pinnoitteissa. Chromium Metal Sputter Targets ovat ydinmateriaali korkean teknologian ohutkalvojen valmistuksessa. Ne valmistetaan usein tyhjiösulatuksella, jauhemetallurgialla ja sähkökemiallisella saostuksella. He voivat tuottaa tuotteita, joilla on korkea puhtaus, korkea tarttuvuus, hyvä tasaisuus ja korroosionkestävyys. Laadukas kalvo, jolla on erinomaiset, kulutusta kestävät ja kestävät ominaisuudet. Kromimetalliruiskutuskohteita voidaan käyttää laajalti huippuluokan elektroniikkateollisuudessa, mikroelektroniikkalaitteissa, optisessa pinnoiteteollisuudessa, PVD-teknologiassa, aurinkoenergia- ja valaistusteollisuudessa, ilmailuteollisuudessa ja tyhjiöpinnoitusteollisuudessa jne.

Kromimetalliruiskutuskohteiden tekniset tiedot:

Chromium Metal Sputter Targets -kuvat:

Suositut Tagit: kromimetalliruiskutuskohteet, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkumyynti, hinta, tarjous, myytävänä