Molybdeenin ruiskutuskohde

Molybdeenin ruiskutuskohteen kuvaus

Molybdenum Sputtering Target on erittäin ympäristöystävällinen sputterointimateriaali. Sen puhtaus on yleensä yli 99,95 prosenttia. Sillä on korkea lujuus, hyvä sähkö- ja lämmönjohtavuus, alhainen lämpölaajenemiskerroin, yhtenäinen sisäinen rakenne, hyvä korroosionkestävyys ja kestävyys. Vahvat ja muut erinomaiset ominaisuudet. Molybdenum Sputtering Targetien pinnan voidaan sanoa olevan kirkas, kiillotettu ja rullattu, ja muoto voi olla pyöreä, suorakaiteen muotoinen ja putkimainen. Molybdeenin ruiskutuskohteita käytetään usein tyhjiöpinnoitusteollisuudessa, ilmailuteollisuudessa, meriautoteollisuudessa, instrumentointiteollisuudessa ja aurinkosähköteollisuudessa.

Mikä on sputterointikohde?

Sputtering Targets kehitettiin 1900-luvulla ohutkalvopinnoitustekniikaksi, ikivanhaksi fyysisen höyrypinnoitusmekanismin prosessiksi, mutta sillä on myös monia käyttökohteita nykyaikaisessa tekniikassa ja valmistuksessa. Prosessi alkaa sijoittamalla substraatti (tai muu pinnoitettava esine) tyhjiökammioon, jossa on kaksi magneettia. Kun kammioon on syötetty kontrolloitua kaasua, kuten argonia, atomit vedetään substraatista magneetilla. Nämä atomit törmäävät sitten toisiinsa kaasumaisessa tilassa, tiivistyvät plasmaksi ja kuivuvat ohueksi kalvoksi substraatilla muodostaen lopulta ohuen, kestävän pinnoitteen, joka sopii useiden eri laitteiden päällystämiseen. Metallin kemiallinen puhtaus on avain sputterointikohteiden valmistukseen. Mitä korkeampi puhtaus on, sitä parempi on kerrostetun kalvon suorituskyky.

Molybdeenin ruiskutuskohdeTekniset tiedot:

Molybdeenin ruiskutuskohdekuvat:

Suositut Tagit: molybdeenin ruiskutuskohde, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkumyynti, hinta, tarjous, myytävänä