Platinum Sputtering Target

FANMETAL toimittaa platina-sputterointikohteita ja muita PVD-pinnoitusjärjestelmissä käytettyjä jalometallisputterointikohteita. Kuten Au-kulta-sputterointikohde, Ag-hopea-sputterointikohde, Pt-platina-sputterointikohde, Iridium-sputterointikohde, Rutenium-sputterointikohde.

Platinum (Pt) sputterointitavoitteen tekniset tiedot

tuotteen nimi	Platinum ruiskuttavat kohteet
Tuotekoodi	ST-PE78
Puhtaus	99,95 prosenttia - 99,99 prosenttia
Muoto	Levyt, levyt, pylväskohteet, letkukohteet, räätälöity{0}}
Mitat	Pyöreä ruiskutuskohde: Halkaisija:<18", thickness:="">0.04" Suorakaiteen muotoinen ruiskutuskohde: Pituus:<36", width:=""><12", thickness:="">0.04"
Liimaus	Indium

Platinum Sputtering Kohdekuva

platinum-sputtering-target39169653387

platinum-sputtering-target39164983412

tuotteen nimi	Elementti	Puhtaus	Sulamispisteen aste	Tiheys (g/cc)	Saatavilla olevat muodot
High Pure Sliver	Ag	4N-5N	961	10.49	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Erittäin puhdasta alumiinia	Al	4N-6N	660	2.7	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Korkea puhdas kulta	Au	4N-5N	1062	19.32	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen vismutti	Bi	5N-6N	271.4	9.79	Hiukkanen, kohde
Korkea puhdas kadmium	CD	5N-7N	321.1	8.65	Hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen koboltti	Co	4N	1495	8.9	Hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen kromi	Cr	3N-4N	1890	7.2	Hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen kupari	Cu	3N-6N	1083	8.92	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
High Pure Ferro	Fe	3N-4N	1535	7.86	Hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen germanium	Ge	5N-6N	937	5.35	Hiukkanen, kohde
Erittäin puhdasta indiumia	Sisään	5N-6N	157	7.3	Hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen magnesium	Mg	4N	651	1.74	Lanka, hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen magnesium	Mn	3N	1244	7.2	Lanka, hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen molybdeeni	Mo	4N	2617	10.22	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen niobium	Huom	4N	2468	8.55	Lanka, kohde
Korkealaatuinen nikkeli	Ni	3N-5N	1453	8.9	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Korkea puhdas lyijy	Pb	4N-6N	328	11.34	Hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen palladium	Pd	3N-4N	1555	12.02	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Korkea puhdas platina	Pt	3N-4N	1774	21.5	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
High Pure Silicon	Si	5N-7N	1410	2.42	Hiukkanen, kohde
High Pure Tin	Sn	5N-6N	232	7.75	Lanka, hiukkanen, kohde
Korkea puhdas tantaali	Ta	4N	2996	16.6	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Korkealaatuinen Telluuri	Te	4N-6N	425	6.25	Hiukkanen, kohde
Erittäin puhdasta titaania	Ti	4N-5N	1675	4.5	Lanka, hiukkanen, kohde
High Pure Tungsten	W	3N5-4N	3410	19.3	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Korkea puhdas sinkki	Zn	4N-6N	419	7.14	Lanka, levy, hiukkanen, kohde
Erittäin puhdasta zirkoniumia	Zr	4N	1477	6.4	Lanka, levy, hiukkanen, kohde

Korkean{0}}puhtauden ja suuren-tiheyden sputterointikohteita ovat:

Sputterointitavoite (puhtaus: 99,9–99,999 prosenttia)

1. Metallitaulu:

Nikkelikohde, Ni, titaanikohde, Ti, sinkkikohde, Zn, kromikohde, Cr, magnesiumkohde, Mg, niobikohde, Nb, tinakohde, Sn, alumiinikohde, Al, indiumkohde, In, rautakohde, Fe, Zirkonium-alumiinikohde, ZrAl, titaani-alumiinikohde, TiAl, zirkoniumkohde, Zr, alumiinipiikohde, AlSi, piikohde, Si, kuparikohde Cu, tantaalikohde T, a, germaniumkohde, Ge, hopeakohde, Ag, kobolttikohde , Co, kultakohde, Au, gadoliinikohde, Gd, lantaanikohde, La, yttriumkohde, Y, ceriumkohde, Ce, volframikohde, w, ruostumaton teräskohde, nikkeli-kromikohde, NiCr, hafniumkohde , Hf, molybdeenikohde, metallisputterointikohteet, kuten Mo-, Fe-Ni-, FeNi-, volframikohteet ja W-kohteet.

Suositut Tagit: platinan ruiskutuskohde, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkumyynti, hinta, tarjous, myytävänä