Sputtering Target on erityinen materiaali, jota käytetään pääasiassa kalvopinnoitus- ja tyhjiöpinnoitusteollisuudessa. Yrityksellämme on hyvä yhteistyösuhde singaporelaisten asiakkaiden kanssa metallikohteissa. Aiemmin metallityöstämme kiitollisena puhunut singaporelainen asiakas tilasi meiltä erän Copper Sputtering Target -laitetta. Olemme keskustelleet asiakkaan kanssa jonkin aikaa tuotteen koosta, tilausmäärästä, hinnasta ja toimitusajasta.
Järjestimme tuotannon heti maksun vastaanottamisen jälkeen. Käytämme erittäin puhdasta kuparimetallia materiaalivalinnassa sekä korkean lämpötilan sintraus-, sulatus-, valssaus-, taonta-, lämpökäsittely- ja koneistusprosessien valmistuksessa. Kupari (Cu) sputterointikohteet soveltuvat DC-kaksinapaiseen sputterointiin, kolminkertaiseen sputterointiin, kvadrupolisputterointiin, ionisuihkuruiskutukseen tai magnetronisputterointiin, korkea puhtaus, erinomainen sähkön- ja lämmönjohtavuus, korkea lämpötilankesto, korkea tuotantotehokkuus ja pitkä käyttöikä. Korkean puhtauden kuparisia kohteita käytetään usein myös muiden kohteiden taustalevymateriaaleina, ei vain kohteen käyttölämpötilan ja vastushäviön alentamiseksi, vaan myös kohteen sähkömagneettisen kentän jakautumisen parantamiseksi, mikä johtaa tasaisempaan sputterointiin ja pidennettyyn. käyttöikä.
Tuotannon päätyttyä suoritamme ehdottomasti laadunvalvonnan ja tarkastuksen sekä pakkaamme ja lähetämme. Toimitimme tuotteen onnistuneesti asiakkaan osoittamaan vastaanottopaikkaan Singaporeen toimitusajan sisällä hyvässä kunnossa. Asiakas on erittäin tyytyväinen tuotteidemme laatuun ja palveluasenteeseen ja sanoi, että jos on tarvetta ottaa meihin yhteyttä uudelleen.
