Boorin ruiskutuskohde

Boorin ruiskutuskohteen kuvaus

Sputterointiprosessissa pääasiallisesti kerrostetaan ohut kalvo erittäin puhdasta sputteroitua metallia tai oksidimateriaalia toiselle kiinteälle substraatille ja ohjataan kohdemateriaalin poistoa ja muuntamista suunnatuksi kaasu/plasmafaasiksi ionipommituksella. Boori on vähän esiintyvä alkuaine aurinkokunnassa ja maankuoressa. Se on heikko johdin huoneenlämmössä ja hyvä johdin korkeassa lämpötilassa. Boron Sputtering Targetilla on erinomaiset fysikaaliset ja kemialliset ominaisuudet, korkea sulamispiste, pienin keskimääräinen raekoko, korkean lämpötilan korroosionkestävyys, hyvä kestävyys, hyvä sähkönjohtavuus ja korkea kustannustehokkuus. Se on kemiallinen höyrypinnoitus (CVD) ja fyysinen höyrypinnoitus (PVD)) erinomaisten valmistusmateriaalien prosessi. Booriruiskutuskohteita käytetään laajalti, pääasiassa ydinteollisuudessa, lasipinnoitusteollisuudessa, elektroniikkatietoteollisuudessa, kemianteollisuudessa, biolääketieteessä, ilmailuteollisuudessa, korkealuokkaisissa koristetuotteissa ja metallin sulatusteollisuudessa jne.

Boorin ruiskutuskohteen tekniset tiedot:

Booriroiskumisen kohdekuvat:

Suositut Tagit: boorin ruiskutuskohde, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkumyynti, hinta, tarjous, myytävänä