Niobiumoksidikohde

Niobium Oxide Kohteen kuvaus

Sputterointitekniikka mahdollistaa erittäin puhtaiden sputteroitujen metalli- tai oksidimateriaalikalvojen kerrostamisen toiselle kiinteälle alustalle. Nb2O5-kalvot valmistetaan sputteroimalla, ja tutkitaan niobiumoksidimateriaalien käyttöä korkeadielektrisissä eristeissä, heijastamattomissa pinnoitteissa ja kaasuherkissä materiaaleissa. Niobium Oxide Target on yleensä valmistettu niobiumpentoksidimateriaalista jauhemetallurgisen käsittelyn tai magnetronisputterointitekniikan avulla. Sillä on korkea tiheys, korkea puhtaus, pienin keskimääräinen raekoko, hyvä sähkökemiallinen vakaus ja elektroniset siirto-ominaisuudet, korkea taitekerroin ja alhainen dispersio, korkean lämpötilan kestävyys, korroosionkestävyys, kestävyys ja muut erinomaiset fysikaaliset ja kemialliset ominaisuudet.

Niobium Oxide Target ei sovellu vain korkealaatuisten niobiumoksidikalvojen, nanolankojen ja muiden nanorakenteiden valmistukseen, vaan myös sähkökemiallisten laitteiden, kuten tehokkaiden aurinkokennojen ja litiumioniakkujen valmistukseen, sekä lämpösuojauksen ja korroosionkestävän valmistukseen. pinnoitemateriaalit.

Niobiumoksidin kohteen tekniset tiedot:

Niobiumoksidin kohdekuvat

Suositut Tagit: niobiumoksidikohde, toimittajat, valmistajat, tehdas, räätälöity, tukkumyynti, hinta, tarjous, myytävänä